光刻机是制造高 端芯片的利器，只有少数 掌握 光刻设备的 研制和 芯片的制造。 本书遵循 半导体协会 光刻技术发展路线图，结 合作者20余年从事 光 刻机曝光系统的研究，重 点介绍光刻28nm～14nm ～7nm～5nm技术节点相 关的深紫外和极紫外光刻 机曝光系统设计研制技术 ，主要包括以下内容：光 刻机发展历程以及深紫外 /极紫外光刻机曝光系统 光学设计的发展历程；光 刻机曝光系统光学设计基 础；浸没式深紫外光刻机 物镜系统光学设计基础、 方法与系统设计；深紫外 光刻机照明系统光学设计 基础、方法与系统设计； 极紫外光刻机匀倍率/变 倍率物镜系统光学设计基 础、方法与系统设计；极 紫外光刻机匀倍率/变倍 率照明系统光学设计基础 、方法与系统设计。

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