原子层沉积技术--从制造原理到装备应用(精)/集成电路制造工艺与装备技术丛书
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内容简介
本书围绕原子层沉积技
术,针对原子层沉积工艺、
纳米结构可控制造方法、智
能制造装备研发和应用等方
面进行阐述。全书共分为9
章。其中,第1章阐述了原
子层沉积技术的基本原理与
工艺;第2和3章分别介绍了
原子层沉积过程、微纳米颗
粒原子层沉积技术与装备;
第4章对选择性原子层沉积
工艺进行了详细介绍;第5
~9章讨论了原子层沉积技
术在光致发光、电致发光、
柔性封装、催化与能源材料
等领域的应用,是前述章节
理论方法的验证与拓展。
本书可作为半导体、泛
半导体、能源催化等领域从
事材料、工艺和装备方面工
作的研究人员和工程技术人
员的参考用书,也可作为高
等院校 电子制造、能源
环境相关专业的教材和教学
辅导书。
作者简介
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