何力编著的《先进焦平面技术导论》以先进焦平面技术为主线，在扼要概括国内外研究历程和技术发展趋势的基础上，着重介绍了作者近年对双色或双谱段红外焦平面芯片的数值设计、硅基碲镉汞和铝镓氮多层材料的生长工艺技术、碲镉汞红外双色和铝镓氮紫外焦平面芯片加工技术、双色焦平面多输入级和数字传输读出电路的设计技术、信号光输出方法以及芯片级非均匀性校正、数据融合算法和实现方法的最新研究结果。
    《先进焦平面技术导论》适合从事红外、紫外光电探测器以及系统应用技术，数据处理、融合技术的科研人员、大专院校研究生，作为深入了解本领域的专业基础内容、技术现状和发展趋势的阅读参考。

暂无作者简介